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少羟基合成石英具备较低的杂质含量和较低的羟基含量，羟基含量在200-300辫辫尘。

F-HDUR has a relatively low impurity content and a low hydroxyl content,with the hydroxyl content ranging from 200 to 300ppm.

      

杂质含量

Chemical purity

金属杂质元素

Na

Al

Cr

含量 （ppm）

＜0.1 ppm

＜0.1 ppm

＜0.1 ppm

注：设备检出限0.05辫辫尘

紫外光谱透过率

UV spectral transmittance

波长

200nm

215nm

230nm

240nm

260nm

（罢%）

86.77

90.37

90.95

91.37

91.98